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高精度的电脑控制技术，全程监控工艺;软件可延伸开发MES和SECS功能
水平排列的四根反应管同时进行化学气相沉积，实现薄膜的高效批量制备
通过等离子体赋能，在较低温度下实现薄膜的快速沉积
将三根工艺管水平并列布置，通过化学气相沉积技术实现薄膜沉积的量产型设备
通过化学溶剂或等离子体方式，在半导体工艺中去除晶圆表面光刻胶的专用设备
一种用于半导体或PCB制程中，自动完成光刻胶显影与定影工艺的自动化设备
是一种通过高速旋转实现光刻胶均匀涂布的自动化设备
全自动单片清洗机是专用于单张晶圆/基板的高精度自动化清洗设备
全自动去边清洗机是一种能够一体化完成工件边缘毛刺去除与表面清洁处理的自动化设备
