卧式CVD薄膜制备系列

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三管卧式CVD薄膜设备

技术参数：

晶圆尺寸：4-6英寸
适用材料：硅
适用工艺：SIPOS、POLY、SI3N4、PSG、LTO、TEOS
适用领域：集成电路、半导体、硅基微型显示

设备特点：

高精度的电脑控制技术，全程监控工艺
软件可延伸开发MES和SECS功能
设备主要配件全部选用国际主流知名品牌
优良的薄膜均匀性
先进的控制软件操作系统

  • 规格参数
  • 规格书信息
lifang.wu@weishi.com
021-57156332

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