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处理原理:干法吸附式
气体最大处理流量:200SLM
控制系统:PLC
适用工艺:MOCVD、PECVD、刻蚀机等配套设备
适用领域:高校实验室、材料分析实验室、芯片半导体
吸附剂更换简单、成本低廉
处理效率高,吸附能力强
售后服务简易,设备故障率低
安装空间占用面积小,节省空间
设计有应急备用桶,主桶异常时可自动切换至应急吸附桶处理
具备入口压力监测、出口压力监测、温度检测等功能,均有安全连锁程序
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