据今日半导体消息，2025年11月25日，上海芯上微装科技股份有限公司（AMIES）自主研发的首台350nm步进光刻机（AST6200）正式完成出厂调试与验收，启程发往客户现场。芯上微装官方消息指出，这标志着我国在高端半导体光刻设备领域再次实现关键突破，为国产半导体装备自主化进程注入新动力。

今日半导体媒体第一时间从芯上微装获悉，AST6200光刻机是公司基于多年技术积淀打造的核心产品。据项目负责人介绍，该设备整合了自主研发的光学系统设计、精密运动控制及半导体工艺适配技术，具备高性能、高可靠性特点，且实现了全自主可控，打破了部分关键技术依赖进口的局面。

“这不仅是一次产品交付，更是国产半导体装备向高端化、自主化迈进的重要里程碑。”今日半导体媒体在采访中了解到，AST6200光刻机专为功率半导体、射频芯片、光电子器件及Micro LED等先进制造场景量身定制，可满足下游行业对高精度光刻工艺的需求，将助力国内相关产业提升核心器件自主供应能力。

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